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한국발명진흥회 공고 제2013-85호
2014년도 지역지식재산센터 지역지식재산
창출지원사업 시행계획 공고
기업 성장단계 및 IP 경영역량에 부합하는 단계별 지원으로 사업을 통합?재구성하여 사업 관리와 성과 창출을 도모하기 위한
『2014년 지역지식재산 창출지원사업 시행계획』을 다음과 같이 공고하오니, 동 사업의 지원을 희망하는 기업은 아래 신청방법 안내에 따라,
해당지역 지식재산센터로 신청하여 주시기 바랍니다.
2013. 12. 30
한국발명진흥회장
Ⅰ. 세부사업 지원내용
1. 선행기술 조사
□ 사업 개요
o 중소기업과 개인발명가의 연구개발 또는 특허출원 전 동일하거나 유사한 선행기술 정보를 조사 분석
□ 지원 내용
o 침해 조사, 권리소멸 조사, 무효자료 조사, 특정기술 및 계속 조사 등
□ 지원 대상
o 지역 소재 중소기업 및 사회적기업 (예비사회적기업 포함)
- 최근 3년간 지식재산권 출원 3건 미만 기업
o 개인발명가 (특허청 등 유관기관 주관대회 수상자에 한함)
□ 접수 기간
o 수시 접수 (지역지식재산센터 통합홈페이지, www.ripc.org 참고)
□ 지원 건수
o IP Start-Up : 기업(개인) 당 선행기술조사와 국내출원 포함 3건 이내
□ 지원 규모
o 지원 금액 : 건당 400천원 이내
o 지원 한도 : 전액 지원 (분담금 없음)
2. 국내출원비용 지원
□ 사업 개요
o 국내 특허, 실용신안, 상표, 디자인 출원비용 중 일부 지원함으로써 산업재산권 창출 도모
□ 지원 내용
o 국내출원비용 일부 지원
□ 지원 대상
o 지역 소재 중소기업 및 사회적기업 (예비사회적기업 포함)
- IP Start-Up : 최근 3년간 지식재산권 출원 3건 미만 기업
- IP Scale-Up : 최근 3년간 지식재산권 출원 3건 이상 또는 등록 1건 이상 보유 기업
o 개인발명가 (특허청 등 유관기관 주관대회 수상자에 한함)
□ 접수 기간
o 수시 접수 (지역지식재산센터 통합홈페이지, www.ripc.org 참고)
□ 지원 건수
o IP Start-Up : 기업(개인) 당 선행기술조사와 국내출원 포함 3건 이내
o IP Scale-Up : 기업 당 국내출원과 해외출원 포함하여 3건 이내
□ 지원 규모
o 지원 금액 : 특허 건당 1,000천원 이내 / 실용신안 건당 500천원 이내 / 상표 건당 250천원 이내 / 디자인 건당 350천원 이내
o 지원 내역 : 총 금액의 95% / 90% / 70% 지원
※ 기업분담금 ? 사회적기업 5% / 소기업(개인 포함) 10% / 중기업 30%
□ 지원 기준
o 출원 전 해당지역 지식재산센터의 컨설팅을 받은 우수 건에 한함
□ 지원 제외
o 출원 후 교부금 신청 당시 취하, 포기 또는 각하된 건
o 신청일 현재 출원 완료된 특허, 실용신안, 상표 및 디자인
3. 해외출원비용 지원
□ 사업 개요
o 중소기업의 해외 특허(실용실안), 상표, 디자인 출원비용 중 일부를 지원함으로써 국제출원을 촉진하고 글로벌 경쟁력 제고
□ 지원 내용
o 해외출원비용 일부 지원
□ 지원 대상
o 지역 소재 중소기업 및 사회적기업 (예비사회적기업 포함)
- IP Scale-Up : 최근 3년간 지식재산권 출원 3건 이상 또는 등록 1건 이상 보유 기업
o IP Star 기업
□ 접수 기간
o 수시 접수 (지역지식재산센터 통합홈페이지, www.ripc.org 참고)
□ 지원 건수
o IP Scale-Up : 기업 당 국내출원과 해외출원 포함하여 3건 이내
o IP Star 기업 : 세부사업 중 연간 70백만원 이내 지원
□ 지원 규모
o 지원 금액 : 특허(PCT 국제단계) : 건당 3,000천원 이내 /
특허(PCT 국내단계, 개별국) : 건당 7,000천원 이내
/
상표 : 건당 2,500천원 이내 / 디자인 : 건당 2,800천원 이내
o 지원 내역 : 총 금액의 95% / 90% / 70% 지원
※ 기업분담금 ? 사회적기업 5% / 스타기업?소기업 10% / 중기업 30%
□ 지원 기준
o PCT출원(국제단계) : 선행기술조사를 통해 특허성이 있다고 판단되는 건으로써, 특허(실용신안) 해외출원 전 해당지역 지식재산센터의 컨설팅을 받은 우수기술
o PCT출원(국내단계) 및 개별국 출원 : 국내단계 진입일 또는 개별국 출원일 기준 3년 이내의 우수기술
o 해외 상표?디자인 출원 : 해외출원 전 해당지역 지식재산센터의 컨설팅을 받은 상표 또는 디자인
※ PCT 출원 및 개별국 출원의 경우 우선 심사 등을 통해 국내 특허청의 등록을 받은 경우에는 우선 지원 대상으로 선정할 수
있음
□ 지원 제외
o 출원 후 교부금 신청 당시 취하, 포기 또는 각하된 건
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